國際空間站兩名宇航員13日出艙維護(hù)制冷系統(tǒng),面臨沾上有毒氨并把氨帶入空間站的風(fēng)險。不過,他們在地面指揮中心指導(dǎo)下,對宇航服和頭盔做了格外仔細(xì)檢查才返回艙內(nèi),確保了安全。
據(jù)美聯(lián)社報道,美國宇航員維克托·格洛弗和邁克·霍普金斯當(dāng)天太空行走執(zhí)行任務(wù),拆除空間站外部制冷系統(tǒng)的幾條老化電纜和管道,清除其中可能殘存的氨。
為防止沾染氨,他們使用較長的工具作業(yè),并盡可能遠(yuǎn)離排放口。然而,由于第一條管道中排出的氨較多,地面指揮中心擔(dān)心一些冰屑狀的氨可能會附著在宇航服上?;羝战鹚瓜蛑笓]中心報告,自己的頭盔上可能有一些冰屑。保險起見,指揮中心要求兩名宇航員仔細(xì)檢查。
第一遍檢查完成后,霍普金斯報告:“看起來很干凈。”近7個小時的太空行走任務(wù)接近尾聲時,指揮中心指示,由于接受日光照射時間足夠長,他們宇航服上即使殘存氨,應(yīng)該都已消除。
霍普金斯和格洛弗返回艙內(nèi)時,其他宇航員沒有聞到氨的氣味,但仍戴手套處理他們的宇航服。(袁原)【新華社微特稿】
責(zé)任編輯:唐秀敏
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