中國半導體工藝技術任重道遠：僅一篇論文入選國際會議

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IBM昨天聯合三星、Globalfoundries宣布了全球首個5nm半導體工藝，性能提升40%，功耗降低75%。IBM這則消息就是在VLSI大規(guī)模集成電路會議上宣布的，這也是國際級的半導體會議。這次會議也暴露了我們在半導體制造技術依然沒有什么存在感，雖然總計提交了18篇論文，但入選的只有1篇，僅占全部入選論文的1/64，遠遠低于美國、日本、歐洲、韓國、新加坡及臺灣地區(qū)。

2017年的VLSI國際會議是在日本東京舉行的，昨天正式開幕，會期8天，全球領先的半導體技術公司、科研機構匯聚一堂討論未來技術的發(fā)展。日本PCWatch網站報道了一些有關大會論文的數據，提交及入選的論文一定程度上可以代表這個公司及所在國在該行業(yè)的地位。

提交申請的論文數

這次大會收到了16個國家和地區(qū)的160篇論文投稿，包括印度、沙特、阿聯酋等國家，其中美國有36篇，位居第一，歐洲區(qū)有34篇，不過這并不算一個國家，臺灣地區(qū)有26件，中國和韓國各有18篇論文申請，這么看的話大陸的論文申請數據還是挺多的，至少說明了國內參與的愿望還是挺強烈的，日本也才16篇，在亞洲位居第四。

最終被采納的論文有64篇，中國入圍1篇

160篇論文中有64篇最終被大會采納，其中美國有15篇，日本有10篇，韓國和臺灣地區(qū)各有8篇入選。對中國來說，提交的18篇論文中只有1篇被采納，只占全部論文中的1/64。

綜觀十年來的統(tǒng)計結果，中國被采納的論文數量一直不多，2014年最多也就是3篇，2015年沒有，2016年也是1篇。雖然說被采納的論文跟這個國家或者地區(qū)的半導體技術實力不能絕對掛鉤，但被采納的論文越多，總體上依然能證明這個國家/地區(qū)的實力的，入圍較多的美國、歐洲、韓國、韓國都是半導體制造工藝先進的國家和地區(qū)。

具體入圍的單位和論文數量

具體來看，這次入圍的64篇論文中，IMEC（比利時微電子中心）有7篇論文入選，藍色巨人IBM有6篇論文入選，三星也有6篇，Globalfoundries是5篇，法國CEA-LETI學院是4篇，TSMC也有3篇，其他入圍的也是一些科研機構或者學校，包括臺灣交通大學、日本東京大學、新加坡國家科學院、美國普渡大學、圣母大學等等。

第一天討論的話題

第一天的日程中，這些全球頂尖的半導體公司、學院討論的都是未來的5nm工藝、Ge、III-V金屬材料、10nm、2.5D/3D封裝、芯片內緩存等技術，無一不是探討有可能改變未來半導體工藝發(fā)展的新技術、新材料。

目前國內在半導體工藝上發(fā)展最先進的還是28nm，其中高性能的28nm HKMG工藝也只才剛開始，比三星、Intel、TSMC要落后兩三代。前年在比利時國王訪華時，國內的中芯國際、華為與高通、SEMI簽署了合作協(xié)議，在IMEC的幫助下開發(fā)14nm FinFET工藝，預計在2020年前量產。

考慮到我們在半導體工藝上落后這么多年了，想很快追上是不可能的，好在國家現在也重視起半導體產業(yè)了，核高基等項目已經作出了部署，前幾天核高基項目負責人還表示取得了重大突破，14nm工藝將在明年量產，未來還會支持7nm、5nm工藝研發(fā)，希望這些表態(tài)不是放衛(wèi)星。